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简要回顾一下，
7月16日，日本《日经亚洲》发文惊呼：“中国能造出自己的ASML吗？”文稿指出中国正在光刻技术领域全面突围，一旦成功将颠覆全球芯片设备市场。
这番恐慌源于中国政府的3440亿元专项投入，以及“十四五”规划中芯片设备100%国产化的明确目标。
简而言之，
从复旦大学的新型光刻工艺到上海光机所的EUV光源突破，中国正用行动回应西方的技术封锁。
日本媒体的恐慌，中国突破封锁的手段
《日经亚洲》的专题报道罕见承认：中国光刻技术的进步速度“超乎想象”。该报获取的内部文件显示，华为东莞工厂正在测试国产EUV样机，采用激光诱导放电等离子体技术，与ASML的激光产生等离子体方案截然不同。
换个角度来看，
这种技术路径创新，让中国绕开了西方专利壁垒。
概括一下，
更让日本焦虑的是市场信号。2025年1-2月，日本半导体设备出口罕见连续下滑，跌幅分别达6%和1.1%。
XM外汇专家观点：
日本半导体制造装置协会坦言：主因是中国企业采购锐减。曾经占据中国光刻机市场30%份额的日本设备商，如今只能看着中企转向国产替代。
尤其值得一提的是，
东京电子高管私下抱怨：“三年前中国客户求着本平台发货，现在连询价电话都少了”。这种转变源于北方华创等中国企业的崛起。它已冲进全球芯片设备企业第六名，在刻蚀、沉积等关键领域打破垄断。
在光刻机最核心的极紫外光源领域，上海光机所林楠团队带来重大突破。
XM外汇财经新闻：
他们绕过美国禁运的二氧化碳激光技术，用固体激光器激发锡等离子体，实现3.42%的能量转换效率。虽然离ASML的5.5%仍有差距，但已是固体光源路线的世界顶尖水平。
容易被误解的是，
更关键的是技术路线创新。复旦大学研制“无极”芯片时，采用台式无掩膜直写光刻系统，直接在晶圆上加工特征结构。
这种方案摆脱了传统光刻机对掩膜版的依赖，线宽精度达0.4微米，加工速度高达180平方毫米/分钟。虽然暂时无法用于7纳米以下先进制程，但对物联网芯片、汽车电子等领域已足够实用。
来自XM外汇官网：
第三条战线在工艺端。中科院微电子所针对EUV光刻中的红外干扰难点，研发出新型辐射抑制模型。该技术能精确控制收集镜表面的热负载，提升光刻系统稳定性，这正是ASML新一代光刻机的攻关重点。
换个角度来看，
3440亿的资金投入，世界遭受的冲击
来自XM外汇官网：
十四五”规划将芯片设备国产化定为国家战略任务，明确要求突破光刻机、刻蚀机等核心装备。 XM外汇代理
这你可能没想到，
为此投入的3440亿元专项资金，正构建覆盖全产业链的研发网络：上海光机所攻光源系统，长春光机所攻光学镜头，清华大学攻双工件台，华为则整合系统集成。
XM外汇报导：
精准的资源分配体现国家意志。在EUV光刻机数万个零部件中，中国勾选优先突破激光光源、光学镜头、精密控制三大卡脖子环节。
换个角度来看，
上海光机所林楠团队之以致能高速推进，正因其核心成员曾在ASML担任光源技术负责人，深谙技术瓶颈所在。
XM外汇专家观点：
企业层面则形成梯队攻坚态势。华为专注EUV整机集成，北方华创攻坚刻蚀设备，中微半导体突破薄膜沉积。这种分工协作使中国在三年内将芯片设备国产化率从不足20%提升至45%。
事实上，
中国技术突破已引发连锁反应。ASML在今年年初将年度营收预期从400亿欧元下调至350亿，首席执行官傅恪礼承认：“中国市场需求变化超出预期”。
XM外汇快讯：
更直接的冲击来自市场份额，中国曾贡献ASML全球营收的36%，但到2024年底该比例已降至27%。
必须指出的是，
日本光刻机企业更受重创。尼康将年度利润预期下调50%，佳能虽未公布具体数据，但内部报告显示其光刻机订单量下滑40%。
不妨想一想，
为挽救市场，日本住友电木等材料商紧急在中国设厂，试图通过本土化生产维持份额。
美国制裁的反噬效应进行显现。在特朗普政府禁止对华出口EUV光刻机时，没料到会倒逼出中国全产业链自主创新。
请记住，
如今中国不仅减少采购进口设备，更在碳化硅、氮化镓等第三代半导体领域与西方齐头并进，开辟了绕开硅基芯片限制的新赛道。
中国的底气来源
中国芯片产业的底气，源自全球最大的应用市场。2024年中国晶圆厂设备支出达500亿美元，占全球三分之一。正是这种需求支撑，使北方华创等企业能通过市场反哺研发，形成“生产-改进-升级”的良性循环。
XM外汇报导：
技术路线勾选也彰显了中国智慧。
其实，
当ASML执着于将光刻精度推向1纳米时，中国同步发展三维集成、存算一体等特色工艺。复旦大学“无极”芯片采用的二维半导体材料，功耗仅为硅基芯片的十分之一，在物联网、航天等领域独具优势。
必须指出的是，
更深远的影响在标准制定权。中芯国际联合华为开发的芯片先进封装技术，已获苹果供应链认证；上海微电子28纳米光刻机进入中芯国际生产线后，良率追平台积电同级产品。
这些突破使中国从技术追随者转变为规则参与者。
反过来看，
当ASML总裁傅恪礼宣称“中国十年内造不出EUV光刻机”时，他或许没细看《自然》期刊上那篇来自中国复旦大学的论文。那里详细记录了用国产光刻机制造32位处理器的全过程。
但实际上，
更没注意到日本媒体对东莞工厂的偷拍照片：中国自主EUV样机已进入总装阶段。
其实，
3440亿投资的战略价值正逐步显现。上海光机所的光源突破、复旦大学的工艺创新、北方华创的设备替代，共同编织成中国光刻技术的自主创新网络。
XM外汇消息：
日本《日经亚洲》的担忧正在变为现实：当中国芯片设备自给率突破60%大关，ASML的垄断神话终将落幕。
大国重器必须掌握在自己手中，这条写在“十四五”规划里的铁律，正指引中国光刻机撕开西方封锁的铁幕。而历史终将证明：任何技术霸权，都挡不住一个民族自主创新的决心。返回搜狐，查看更多
