站在​用户角度来说,原创 
根据公开​数据显示, ​           重大突破,中国芯片终于初见曙光!浙江大学立大功了,要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机,而 E​UV光刻机全球只有荷兰 ASM​L一家能制造 科技

站在​用户角度来说,原创 根据公开​数据显示, ​ 重大突破,中国芯片终于初见曙光!浙江大学立大功了,要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机,而 E​UV光刻机全球只有荷兰 ASM​L一家能制造

更狠的是,它不需要掩膜版,设计改了直接就能重新写,省下一大笔钱和时间。这也是为什么ASML的EUV依旧是量产7纳米以下的唯一主力(数据来源:麻省理工科技评论 2024)。浙江大学能...
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