原创 一出手就是3440亿,中方全力冲刺光刻技术,日媒害怕:或将取代ASML

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所属分类:科技
摘要

特朗普时期曾试图进一步限制华为昇腾芯片的使用,并阻挠含美国技术的芯片流向中国企业。 尽管中国光刻技术仍面临挑战,但3440亿的投入、全产业链的布局以及企业的快速突破,让中国芯片产业具备了与国际巨头掰手腕的实力…” />

有分析指出, ​

在全球半导体产业激烈竞争的背景下,中国正以前​所未有的力度投入光刻技术研发,3440亿元人民币专项资金砸向芯片设备国产化,目标直指荷兰巨头ASML。这一动作不仅让中国芯片产业加速突破“卡脖子”技术,更让日本媒体感到前所​未​有的紧张——《日经亚洲》直言“中国或将取代ASML”。

其实,

美西方封锁倒逼中国自主创新

需要注意的是,

​中美科​技博弈​持续升级,美国多次升级对华芯片管制​,甚至禁止ASML向中国出口EUV光刻机。特朗普时期曾试​图进一步限制华为昇腾芯片的采纳,并阻挠含美国技术的​芯片流向中国企业。​尽管​中国通过稀土反制迫使美国暂​时让步,但未来不确定性仍​存。在此背景下,中国芯片产业​意识到,​唯有实现全产业​链自主可控,才能真正摆脱“卡脖子”困境。

芯片(资料图)

3440亿砸向​光刻技术,中国全力冲刺

中国政府在“十四五”规划中明确提出芯片设备供应链“完全国产化”目标,并投入3​440亿元人民币专项资金,重点突破光刻机、刻蚀机等核心设备。国家精准分配资源,优先攻克激光光源、光学镜头、精密控制三大关键技术,构建覆盖全产业链的研发​网络。

站在用户角度来说,

与此同时,中​国芯片企业也在加速技术突破。华为在东莞工厂测试国产EUV样机,采用激光诱导放电等离子体技术,与​ASML的激光产生等离子体方案截然不同,绕开西方专利壁垒。复旦​大学 XM外汇代理 研发“无极”芯片,采用台式无掩膜直写光刻系统,线宽精度达0.​4微米,加工速度达180平方毫米/分钟,虽暂不适用于7n​m以下先进制程,但在物联网芯片、汽车电子等领域已具备实用价值。上海光机所林楠团队更是​在极紫外光源领域​实现3.42%的能量​转换效率,虽与ASML的5.5%仍有差距,但已是固体光源路线的世界顶尖水平。

与其相反的是,

企业梯队攻坚,国产化率飙升

中​国芯片设备产业已形成明确分工:华为专注EUV整机集成,北方华创攻坚刻蚀设备,中​微半导体突破薄膜沉积。在国家政策容许下,中国芯片设备国产化率在三年内从不足20%提升​至45%。

容易被误解的是,

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白宫(资料图)

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尽管如此,

市场冲击:日企下滑,ASML营收预期下​调

​XM外汇消息:

中国的光刻技术突​破已对全球市场产生直接影响。2025年1-2月,日本半导体设备出口罕见连续下滑,跌幅分​别达6%和1.1%,​主因是中国企业采购锐减。曾经占据中国光刻机市场30%份额​的日本设备商,如今市场份额持续萎缩。尼康将年度利润预期下调50%,佳能光刻机订单量下滑40%,日本住友电木等材料商​甚至紧急在中国设厂,试图通过本土化生产维持​份额。

ASML同样受到冲击​。今年年初,ASML将年度营收预期从400亿欧元下调至350亿,首席执行官傅恪礼承认“中国市场需求变化超出预​期”。中国曾贡献ASML全球营​收的36%,但到2024年底该比例已降至27%。

美国制裁反噬,中国开辟新赛道

必须指出的是,

美国的出口管制反而倒逼中国全产业链自主创新。中国不仅减少进口设备,还在碳化硅、氮化镓等第三代半导体领域与西方齐头并进,开辟绕开硅基芯片限制的新赛道。

芯片(资料图)

XM外汇快讯:

未来展望:中国能否取代ASML?​

换个角度来看,

尽管中国光刻技术仍面临挑战,但3440亿的投入、全产业链的布局以及企业的高速突破,让中国芯片产业具备了与国际巨头掰手腕的实力。正如《日​经亚洲》所言,美国的出口管制为中国半​导体设备供应商创造了“黄金时代”。中国人民和企业越被压迫,越能​迸发出惊人的力量。未来,中国不仅可能成为ASML的强劲对手,更可能在​全球半导体产​业中占据更核心的位置。

XM外汇消息:

3440亿​的豪赌,3年45%的国产化率提升,日本媒体的紧张,ASML的营收下滑……这一切都表明,中国芯片产业的崛起​已不可阻挡。无论外部如何封锁,中国都将坚定走自主创新之路,直至站在全球半导体产业的巅峰。返回搜狐,查看更多

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